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浙江天芯半导体有限公司主营业务：半导体掩模版的研发、生产和销售。团队管理人员均有40nm及以上制程半导体光掩模版领域拥有多年生产管理经验。集成电路半导体制造过程中的图形转移母版掩模版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩模版等，是半导体芯片制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。
设计美化
公司自成立以来长期专注于半导体掩模版的研发、生产和销售。公司紧跟全球半导体特色工艺制程演进步伐，不断进行技术攻关和迭代，掩模版工艺节点从1μm逐步提升至130nm，产品的应用领域从分立器件、LED、IC封装、光学器件等，逐步扩大至制程水平和精度要求更高的MEMS传感器、功率器件、电源管理芯片、模拟IC等，终端应用领域涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、消费电子等。
网络应用