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最后点入：2025-04-12 22:03:56 · 加入时间：2025-04-12 22:03:53

网站关键词(140个字符):
半导体掩模版、 石英掩模版、 苏打掩模版、 Standard、 Binary、 Mask（二元掩模版也称为双极型掩模）、 OPC（Optical、 Proximity、 Correction）即光学邻近效应修正技术、 PSM（Phase、 Shift、 Mask）即相移掩模技术、 浙江天芯半导体有限公司、

网站描述词(161个字符):
浙江天芯半导体有限公司主营业务：半导体掩模版的研发、生产和销售。团队管理人员均有40nm及以上制程半导体光掩模版领域拥有多年生产管理经验。集成电路半导体制造过程中的图形转移母版掩模版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩模版等，是半导体芯片制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。

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